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                真空鍍膜機導電膜適用軟性電子

                2021-01-29

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                       真空鍍膜機導電膜特性/成本優于ITO 適用軟性電子以高階注入的高能隙金屬氧化物如氧化銦錫(ITO)形成的透明導電膜在光電產業的應用非常成功,舉凡平面顯示器、太陽能電池和觸控面板等都須使用。然而除須兼顧薄膜的透明度和電性外,軟性電子元件所需的透明導電膜還須具備可繞曲特性,若仍選擇容易因為彎曲而產生缺陷的金屬氧化物薄膜時,元件的可繞曲次數和可彎曲程度便會受到限制,進而影響到可應用范圍。除此之外,常用銦錫氧化物中的銦屬于稀有金屬,被大量使用之后,容易發生原料短缺、價格上漲的缺點,因此開發具備柔韌性的透明導電膜對軟性電子元件技術發展很重要。


                真空鍍膜機


                       真空鍍膜機廠具有導電性的高分子材料種類繁多,如聚乙炔(Polyacetylene)、聚苯胺(Polyaniline)、聚咇咯(Polypyrrole)、聚吩(Polythiophene)等,然而考慮到必須兼顧透明及高導電度的特性下,目前最成功的材料是Polythiophene系列中的Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)-PEDOT(產品型態多為溷和Polystyrenesulfonicacid-PSS的水溶液),材料業者如Agfa和H.C.Starck已可推出導電率接近1,000S/cm的產品,可用來制作具有光穿透率大于80%、表面電阻約200Ω/sq和高度可繞曲性的導電基板。
                       近年來,廣東真空鍍膜機研究者開始注意到ITO-金屬-ITO多層膜系統,其優點在于透光、導電和可繞曲等特性的增進,其中導電性和可繞曲性的增進原因較直觀,皆來自于金屬薄膜本身優異的特性。透光性的增加則來自這類介電-金屬-介電多層膜構造對可見光反射的抑制效果,同時透過光學設計可改變穿透光的頻譜,造成選擇性透明的功能。
                       軟性光電元件的發展,須使用可繞曲的透明導電膜才能完善,然而現今被大量使用的金屬氧化物電極如ITO,并不能滿足這個需求。真空鍍膜機透明導電膜技術及其在太陽能元件上的應用,這些技術包括導電高分子、氧化物-金屬-氧化物多層膜技術、奈米銀自組裝及銀奈米線等,都能形成透明又導電的薄膜或是網狀結構,而且特性和制造成本優于ITO,將來都有可能成功地被應用在可繞曲的光電元件上。

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